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Low Temperature Epitaxy Processes for Contact Resistivity Reduction
Joe Margetis, Nico Breil,John Tolle,Abhishek Dube,Saurabh Chopra
ECS Meeting Abstractsno. 33 (2024): 5119-5119
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Demonstration of High-Growth-Rate Epitaxially Grown Si Channel on 3D NAND Test Vehicle with Memory Functionality
Hao-Ling Tang, Insoo Jung, Frank C. C. Chin, Luc Thomas, Xin Meng,Arvind Kumar,Jaesoo Ahn,Zuoming Zhu,Abhishek Dube,Mahendra Pakala
2024 IEEE INTERNATIONAL MEMORY WORKSHOP, IMW (2024)
引用0浏览0EIWOS引用
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(Invited) Activation and Deactivation in Ultra-Highly Doped N-Type Epitaxy for Nmos Applications
Zhiyuan Ye,Miao-Chun Chen, Flora Chang,Chen-Ying Wu,Xuebin Li,Abhishek Dube,Patricia Liu,Saurabh Chopra,Schubert Chu
Meeting abstracts/Meeting abstracts (Electrochemical Society CD-ROM)no. 24 (2020): 1769-1769
引用3浏览0引用
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HALOGENATED DOPANT PRECURSORS FOR EPITAXY
Abhishek Dube,Yihwan Kim, L I Xuebin
mag（2016）
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