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EUV Lithography: LER Design, Mask, and Wafer Impact
Jiahui Wang,Emily Gallagher,Jeroen Van de Kerkhove,Rik Jonckheere,Darko Trivkovic
OPTICAL AND EUV NANOLITHOGRAPHY XXXVII (2024)
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Novel Metrology for Mask Degradation: IR-AFM, XPS Depth Profiling and HAXPES
Véronique de Rooij, Shriparna Mukherjee, Chien-Ching Wu, Rob P. Ebeling, Komal Pandey, Maarten van Es,Rik Jonckheere
Photomask Technology 2024 (2024)
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Does High-Na EUV Require Tighter Mask Roughness Specifications: a Simulation Study
Rik Jonckheere,Lawrence Melvin
INTERNATIONAL CONFERENCE ON EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2022 (2022)
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Contribution of Mask Roughness in Stochasticity of High-Na EUV Imaging
Rik Jonckheere,Lawrence Melvin
INTERNATIONAL CONFERENCE ON EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2021 (2021)
引用7浏览0引用
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#Papers: 137

#Citation: 1524

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