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Design and Process-Friendly High-NA EUV Stitching Options
Kevin Lucas,Zac Levinson,Yunqiang Zhang, Xiangyu Zhou,Kevin Hooker, Linghui Wu, Lin Wang, Michael C. Lam, Soo Han Choi,James Ban
Photomask Technology 2024 (2024)
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High Accuracy Electromagnetic Full-Chip Modeling for Curvilinear Mask OPC and ILT
Enas Sakr,Zac Levinson, Rob DeLancey, C. Jay Lee, Jinguang Li, Ryan Chen, Robert Iwanow,Delian Yang,Wolfgang Hoppe,Folarin Latinwo,Kevin Lucas, Peng Liu
DTCO AND COMPUTATIONAL PATTERNING III (2024)
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High Accuracy OPC Modeling for New EUV Low-K1 Mask Technology Options
Enas Sakr, Rob DeLancey,Wolfgang Hoppe,Zac Levinson, Robert Iwanow, Ryan Chen,Delian Yang,Kevin Lucas
DTCO and Computational Patterning II (2023)
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Validation of Machine Learning OPC Compact Models for Advanced Manufacturing
Moongyu Jeong,Marco Guajardo,Cheng-En Wu, Song-haeng Lee,Tim Fuehner,Lena Zavyalova, Li-Jin Chen,Hua Song,Kevin Lucas
Design-Process-Technology Co-optimization XV (2021)
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