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Demonstration of a Stacked CMOS Inverter at 60nm Gate Pitch with Power Via and Direct Backside Device Contacts
Marko Radosavljević,C.-Y. Huang,R. Galatage, M. F. Qayyum, J. A. Wiedemer, E. Clinton, D. Bennett, H. Ryu,N. K. Thomas,P. Morrow,T. Michaelos,R. Nahm,N. Briggs, A. Roy,C. C. Kuo, S. Atanasov,S. Ghose, N. Zussblatt, N. Kumar, D. Unluer,M. Beasley, J. M. Tan,L. H. Tan, M. Elkins, S. Cekli, R. Hermann, L. Shoer,M. Abd El Qader, U. Desai, T. Edwards, P. Prasad, J. Armstrong, M. Ghosh, Y.-A. Liao, V. Kapinus,D. Dixit,M. K. Harper, P. Tran, K. L. Cheong, A. Fatehi,A. A. Oni, N. Franco,B. J. Krist, M. V. Metz,G. Dewey,R. Schenker,M. J. Kobrinsky
2023 International Electron Devices Meeting (IEDM)pp.1-4, (2023)
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GROWTH AND CHARACTERIZATION OF (InxGa1-x)2O3 THIN FILMS GROWN BY PULSED LASER DEPOSITION by Sneha
Karen Kawal, Shafiqur Rahman,Susmita Ghose, Juan Salvadore, Khem Baral, Brian Samuels
semanticscholar（2019）
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