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Silicon Nitride Spacer Etching Selectively to Silicon Using CH3F/O2/He/SiCl4 Plasma

Nicolas Posseme,Maxime Garcia-Barros,Christian Arvet,Olivier Pollet,Francois Leverd,Sebastien Barnola

Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films（2020）

引用 7|浏览22

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